晶圆和芯片清洁：

• 擦拭硅晶圆表面、半导体芯片和集成电路元件，去除灰尘、颗粒和微小杂质。

• 防止划痕、静电和污染对电子性能的影响。

精密仪器表面清洁：

• 清洁光刻机、刻蚀机、测试仪器及检测设备的表面。

• 使用干擦或湿擦结合去离子水或专用清洁液，保证仪器长期高效运作。

防静电保护：

• 选用抗静电或导电型擦拭布，降低静电对晶圆和芯片的损害风险。

• 与防静电手套、手腕带结合使用，提高操作安全性。

洁净室维护：

• 定期擦拭工作台、设备表面及操作区域，防止灰尘和颗粒沉积。

• 使用后的擦拭布妥善处理，防止二次污染。

生产质量保障：

• 保持生产环境洁净，提高芯片良率。

• 降低生产缺陷和设备故障率，保障半导体制造流程的稳定性。

实验仪器清洁：

• 用于显微镜、离心机、分析仪等精密仪器表面擦拭，去除灰尘和液体污染。

• 避免普通擦拭布可能带来的纤维残留和化学反应。

工作台和操作区域清洁：

• 定期清洁实验台面、操作柜、试剂区域和样品处理区域。

• 保持实验环境洁净，防止交叉污染和微生物扩散。

液体溢出处理：

• 快速吸收和擦拭培养基、缓冲液、酒精或其他实验液体。

• 防止液体扩散，减少污染风险。

防静电和微生物防护：

• 选择抗静电无尘擦拭布，降低静电对敏感仪器和电子设备的影响。

• 某些擦拭布经过杀菌处理，可进一步降低微生物污染。

日常维护：

• 实验前后均可使用无尘擦拭布擦拭仪器和工作台面，确保实验环境始终保持高洁净度。

• 使用后的擦拭布应妥善处理，避免二次污染。

光学元件清洁：

• 对镜片、光学镜头、棱镜、滤光片等进行日常擦拭。

• 使用低纤维、抗静电的擦拭布，防止颗粒和静电对光学性能造成影响。

精密仪器表面清洁：

• 清洁光学检测仪器、显微镜、投影设备和光学传感器表面。

• 根据污染类型选择干擦或湿擦，湿擦可使用去离子水或光学专用清洁液。

防静电操作：

• 选择抗静电擦拭布，减少摩擦产生静电。

• 在操作高精度光学元件时佩戴防静电手套，保证清洁操作安全。

边缘及凹槽处理：

• 使用折叠或切割小块擦拭布，清洁镜片边缘、棱镜角落及仪器凹槽。

日常维护：

• 定期清洁光学元件和仪器表面，防止灰尘和油污积累影响性能。

• 使用后的擦拭布应妥善存放，避免二次污染。

准备工作：

• 确保传感器断电或关闭设备，避免操作中损坏或触电。

• 洗净双手或佩戴防静电手套，防止油脂或静电污染传感器。

• 准备低纤维、抗静电的无尘擦拭布，可轻微湿润（使用去离子水或光学专用清洁液）。

干擦灰尘：

• 使用干擦拭布沿单方向轻轻擦拭，去除表面灰尘颗粒。

• 避免来回摩擦或施加过大压力，以防划伤光学表面。

湿擦污渍：

• 对指纹、油污或液体残留，使用湿润擦拭布轻柔擦拭。

• 控制液体量，避免液体进入传感器缝隙或敏感区域。

边缘和凹槽处理：

• 使用折叠或切割小块的擦拭布，清洁传感器边缘和难以触及的凹槽。

检查与干燥：

• 清洁后仔细检查传感器表面是否有灰尘或水迹。

• 必要时用干净擦拭布再次轻擦干燥，确保表面无残留。

日常维护：

• 定期清洁传感器，防止灰尘和污染物长期积累影响性能。

• 使用后的擦拭布应妥善存放，避免二次污染。

准备工作：

• 清理实验台表面杂物，确保台面干净整洁。

• 洗净双手或佩戴防静电手套，避免手部油脂污染台面。

• 准备低纤维无尘擦拭布，可轻微湿润（使用去离子水、IPA 或实验室专用清洁液）。

干擦灰尘：

• 使用干燥的无尘擦拭布沿一个方向轻轻擦拭，去除松散灰尘和颗粒。

• 避免来回摩擦，以减少划痕和静电吸附灰尘。

湿擦液体和污渍：

• 对液体残留、油污或化学试剂残留，使用轻微湿润的擦拭布沿单方向擦拭。

• 控制液体用量，避免过湿导致液体渗入台面缝隙或设备下方。

边角及缝隙处理：

• 使用擦拭布折角或小片，清洁实验台边缘、角落及缝隙处，确保无残留。

检查与干燥：

• 清洁完成后检查实验台表面是否有灰尘、水迹或残留污渍。

• 必要时使用干净擦拭布再次擦拭干燥，保证台面完全干净。

日常维护：

• 建立固定的清洁周期，避免灰尘和液体堆积。

• 清洁后及时存放擦拭布，防止二次污染。

准备工作：

• 洗净双手或佩戴防静电手套，防止手部油脂污染光学元件。

• 确保光学元件固定稳定，避免清洁过程中晃动或碰撞。

• 准备低纤维无尘擦拭布，可选择轻微湿润（使用光学专用清洁液或少量IPA）。

干擦灰尘：

• 先用干燥的无尘擦拭布轻轻擦拭光学表面，去除松散灰尘颗粒。

• 注意沿单一方向擦拭，避免来回摩擦造成划痕。

湿擦油污或指纹：

• 若有油污或指纹，用轻微湿润的擦拭布沿单方向轻擦光学表面。

• 避免使用过量液体，以免渗入镜片边缘或影响内部组件。

边缘与缝隙处理：

• 使用擦拭布折角或小片擦拭镜片边缘及缝隙处，确保无残留。

检查与干燥：

• 清洁完成后仔细检查光学表面，确保无灰尘、油污、水迹或划痕。

• 必要时用干净擦拭布再次轻擦干燥，确保光学元件完全干净。

存放保护：

• 清洁后及时将光学元件放入防尘、防潮存放容器中。

• 避免手直接触碰光学表面，保持光学性能和清洁度。

误区一：随意选择擦拭布

• 错误做法：使用普通纸巾、毛巾或衣物代替无尘擦拭布。

• 影响：易掉毛、划伤表面、留下颗粒和纤维。

• 正确做法：选择低纤维、柔软、耐化学的专用无尘擦拭布。

误区二：过量使用清洁溶剂

• 错误做法：直接将溶剂倒在仪器表面或浸湿擦拭布过多。

• 影响：液体渗入仪器内部，损坏电子元件或光学部件。

• 正确做法：轻微湿润擦拭布，控制溶剂用量，沿单方向擦拭。

误区三：不清洁布料或重复使用

• 错误做法：使用已污染或重复使用的擦拭布。

• 影响：造成二次污染、划痕或残留污物。

• 正确做法：使用干净、专用擦拭布，必要时更换。

误区四：随意擦拭方向和力度

• 错误做法：随意多方向摩擦或用力过大。

• 影响：容易产生划痕和静电吸附灰尘。

• 正确做法：沿单一方向轻柔擦拭，避免过度摩擦。

误区五：忽视存放和防护

• 错误做法：清洁后的仪器或擦拭布随意放置。

• 影响：灰尘落附或布料受污染，降低清洁效果。

• 正确做法：清洁后将仪器置于干净、低尘环境，擦拭布单独密封保存。