半导体芯片生产对洁净环境的要求极高，任何微小尘粒或污染都可能导致产品缺陷。因此，芯片洁净室必须采用专门的清洁方法和工具，确保环境保持最高级别的洁净状态。

一、芯片洁净室清洁原理

颗粒和污染物通过静电吸引、重力沉降和气流引导三种方式沉积在洁净室表面。静电力吸引空气中的尘埃，重力使颗粒沉降，而气流则引导颗粒至特定区域。理解这些原理有助于制定有效的清洁策略。

• 湿式清洁：利用清洁液（如去离子水或专用化学剂）去除表面污染物，尤其适用于擦拭无法通过干式清洁去除的颗粒和污渍。

• 干式清洁：采用耐用、不脱毛的擦拭布或擦拭纸对表面抛光，避免二次污染，常见材质有针织聚酯和棉斜纹布，依据ISO等级选择合适材料。

二、芯片洁净室清洁方法

1. 避免非洁净室指定清洁剂
   建议使用去离子水擦拭所有表面、地板和墙壁，避免使用磨砂膏、抹布或粉末类清洁剂。

2. 拖地系统
   采用高压灭菌的多桶拖地系统，配备无损轮子和无缝水桶，严格控制清洁水和污水。

3. 日常清洁计划

• 每日：使用去离子水擦拭地板，配合真空吸尘吸干。用70%异丙醇湿巾擦拭窗户及洁净通道。

• 每周：湿拖地板，擦拭墙壁和天花板，用洁净海绵配合去离子水清洁灯罩和灯槽，真空吸尘。

• 及时更换洁净室粘垫，保持污染隔离。

三、芯片洁净室清洁工具

1. 洁净室吸尘器
   配备HEPA或ULPA过滤器，能高效捕获颗粒，适合清理平面及难以触及角落，防静电设计防止火花产生。

2. 高精度干冰枪
   利用固态二氧化碳颗粒通过喷射剥离表面污染，无湿度且无残留，适用于湿敏感设备和表面。

3. 无尘拖把
   采用洗涤过的聚酯纤维、微纤维和泡沫海绵，干湿两用，拖拭过程中不掉毛絮，不产生二次污染。

通过科学的清洁原理、合理的方法安排以及专业的清洁工具，芯片洁净室能够维持严格的洁净环境，为半导体产品的高品质保驾护航。