描述
MiraWIPE® 256 无尘超细纤维擦拭布专为 ISO Class 1-3 超高洁净室设计，具有极低的颗粒与离子析出量，满足半导体、微电子以及精密光学制造的高标准要求。它采用先进的超细纤维材料制成，柔软且高效，能有效去除微小颗粒和污染物，不会刮伤精密表面。作为晶圆厂 3-10nm 技术节点生产线上设备维护的首选擦拭布，MiraWIPE® 256 在保持洁净度的同时，兼具优异的吸液性和耐化学性能，确保关键工艺设备的长效运行。
产品特点
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适用于 ISO Class 1-3 超高洁净室
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采用超细纤维结构，超强吸附灰尘与微粒
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极低颗粒与离子析出，保持表面无污染
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柔软布面，不刮伤光学镜头、晶圆及精密器件
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耐化学性强，适用于多种溶剂擦拭
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双重清洗工艺，确保超低残留物
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是半导体 3-10nm 工艺设备维护（PM）的理想选择
应用范围
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半导体晶圆厂设备维护（3-10nm 技术节点）
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精密光学仪器清洁
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微电子制造车间擦拭
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高端医疗器械生产环境
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航空航天精密组件清洁
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液晶面板、光学镜片与镀膜元件维护
产品参数
| 参数项 | 说明 |
|---|---|
| 品牌 | MiraWIPE® |
| 型号 | 256 |
| 材质 | 超细纤维（Microfiber） |
| 适用洁净等级 | ISO Class 1-3 |
| 尺寸 | 可定制（常规尺寸：9”x9”等） |
| 特点 | 低颗粒、低离子析出、高吸液性、不刮伤表面 |
| 主要应用 | 晶圆厂设备 PM、精密电子/光学清洁 |
| 技术适配范围 | 半导体 3-10nm 技术节点生产设备 |
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