在快速发展的电子、光电和半导体产业中，洁净室不可或缺。半导体芯片对尘埃和污染物极为敏感，芯片洁净室中任何微小的颗粒或污染物都可能导致生产问题。因此，保持洁净室的高等级清洁状态至关重要，且必须使用专门的清洁方法和工具。芯片洁净室的清洁方式与日常清洁有很大不同，本文将探讨其清洁原理、方法和所需工具。

一、芯片洁净室清洁的原理
了解颗粒与表面结合的方式（电力、物理或化学）是实现最佳清洁效果的第一步。颗粒或污物通过静电吸引、重力沉降和气流引导三种方式沉积在洁净室内的物体表面。

• 许多物质摩擦后会带电，产生静电力，吸引空气中的尘埃颗粒。

• 颗粒的重量导致其受到重力作用，沉降在表面。

• 洁净室内的气流也会引导颗粒至某些表面。

湿式清洁：
使用清洁液去除污染物。有时擦拭只能移动颗粒而不能彻底去除，当颗粒附着力较强时，采用湿法清洁。清洁液的选择依表面材料及消毒或灭菌需求而定。

干式清洁：
采用多孔或吸收材料对表面进行抛光或擦拭，最大限度减少二次污染。擦拭材料应耐用、不掉毛、不易破裂。依据洁净室的ISO等级，选择针织聚酯布或吸水性更强的棉斜纹布擦拭布。

二、芯片洁净室清洁方法

• 避免引入非洁净室指定的清洁剂。

• 建议使用去离子水（DI水）擦拭所有表面、地板、墙壁和工作台。

• 严禁使用磨砂膏、抹布或粉末。洁净室拖把应由编织聚酯等材料制成，减少纤维脱落。

• 使用可高压灭菌的多桶拖地系统，配有无痕轮、无缝水桶、专用清洁水和废水控制装置。

• 每日工作班前用DI水擦地并吸干。

• 每周用洁净室清洁剂、蒸馏水及HEPA过滤真空器湿拖地面。

• 用湿海绵和DI水擦拭墙壁，每周吸尘干燥。

• 窗户及洁净通道每天清洗，用无绒70% IPA湿巾擦干。

• 每日吸尘天花板，每周用湿海绵和DI水擦拭并吸干。

• 必要时使用清洁剂和DI水清洗天花板，去除沉积物。

• 除地板外，日常清洁可在正常工作时间内完成。

• 每周擦拭灯罩和灯槽，吸干。

• 及时更换洁净室粘垫。

三、芯片洁净室清洁工具

• 洁净室吸尘器：
  配备HEPA或ULPA过滤器，捕捉并移除受控环境中的颗粒。适合清理平面及难触及区域，如角落缝隙。多数型号能处理危险干湿物质，配备接地和无火花电机，防止爆炸事故。

• 高精度干冰枪：
  适合对湿度敏感的表面和设备，利用富氮环境下的非磨蚀性干冰喷射去除污染物。干冰喷射使用压缩二氧化碳气流剥离颗粒，固态CO2升华无化学残留，污染物随气流带走。

• 无尘拖把：
  由洗净聚酯纤维、超细纤维及泡沫海绵制成，提供干湿两种形式。拖把在使用过程中不留绒毛或残留物，拖把头、水桶和拧水器等均符合无尘标准。

结语：
半导体芯片洁净室的维护需要严格遵守专业清洁原则和方法，结合高效的清洁工具，确保污染控制，从而保障这一极其敏感制造环节的产品良率和质量。