半导体晶圆在制造和检测过程中对表面洁净度要求极高，任何微小颗粒或污染都可能影响器件性能和良率。使用 无尘擦拭布 清洁晶圆，可有效去除灰尘、颗粒、指纹及残留化学物质，同时避免划痕和静电损伤。遵循正确的操作指南是保证晶圆质量和生产稳定性的关键。
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清洁前准备：
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穿戴洁净室防护服、手套、口罩及防静电腕带，确保操作环境符合半导体洁净标准。
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选择适合晶圆表面的超细纤维或聚酯纤维无尘擦拭布。
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根据污染类型，可使用IPA或专用晶圆清洁液预湿布面。
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清洁操作步骤：
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初步除尘：使用洁净气体吹去晶圆表面的灰尘颗粒，避免直接擦拭造成划痕。
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干擦处理：用干净的无尘布轻柔地擦拭晶圆表面，沿单一方向或中心向外动作。
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湿擦处理：对顽固污染或油污，可使用预湿布轻轻擦拭，并确保液体迅速蒸发。
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布面更换：在清洁多个晶圆或布面污染时及时更换，防止二次污染。
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表面检查：清洁完成后仔细检查晶圆表面，确保无灰尘、条纹或残留物。
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注意事项：
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避免使用破损或含杂质的擦拭布。
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清洁液体不可渗入晶圆背面或载片，防止腐蚀或静电损伤。
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保持洁净室环境稳定，减少空气悬浮颗粒。
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特点：
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超高洁净度：低纤维脱落、低颗粒，符合半导体洁净要求。
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防静电：降低晶圆表面静电积累，减少颗粒吸附。
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柔软材质：保护晶圆镀膜及表面结构，防止划痕。
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干湿两用：可根据污染程度选择干擦或湿擦。
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操作高效：轻松清洁晶圆表面，保证生产良率。
应用范围：
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半导体晶圆制造、检测及测试过程清洁。
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IC芯片封装前表面清洁。
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光刻、刻蚀、薄膜沉积及CMP工艺前后晶圆维护。
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半导体洁净室日常晶圆表面清洁与防尘操作。