描述
MiraWIPE® 无硅高洁净无尘擦拭布经过严格处理和无尘洗涤工艺，确保符合行业对颗粒、纤维、阴离子、阳离子、金属、生物负荷及非挥发性残留物（NVR）的最高规格要求。
该产品不含硅，适合对洁净度要求极高的应用场景。布面柔软耐用，低纤维脱落，同时具备高吸水性和吸附性，可有效去除灰尘、微粒及液体污染，保护无尘室环境和精密设备的完整性。
广泛应用于半导体制造、光学仪器、电子设备、药品生产及其他高洁净度工业场景。
产品特点
| 特点 |
描述 |
| 无硅处理 |
硅含量为零，防止硅污染敏感设备 |
| 高洁净度 |
严格控制颗粒、纤维、阴离子、阳离子、金属、生物负荷及NVR |
| 材质 |
高密度聚酯/聚酰胺复合纤维，低纤维脱落 |
| 吸附性能 |
高吸水性和吸附性，快速去除灰尘和液体污染 |
| 耐用性 |
柔软耐磨，可重复使用 |
| 表面 |
不划伤精密表面 |
| 使用方便 |
可折叠、裁切，适用于各种设备表面清洁 |
| 化学兼容性 |
可耐异丙醇、去离子水等常用溶剂 |
产品用途
| 用途场景 |
说明 |
| 半导体制造 |
清洁晶圆、芯片生产设备表面，防止颗粒和金属污染 |
| 光学仪器清洁 |
擦拭镜头、显微镜及光学组件，确保光学涂层洁净 |
| 电子设备维护 |
清洁电路板、精密电子元件及测试设备 |
| 药品生产 |
用于洁净室环境的设备和台面清洁，避免生物污染 |
| 高洁净工业应用 |
工业自动化设备、精密机械、实验室设备表面维护 |
产品规格参数
| 参数 |
规格 |
| 材质 |
高密度聚酯/聚酰胺复合纤维 |
| 尺寸 |
可定制（常见 6″x6″, 9″x9″, 12″x12″） |
| 包装 |
每包 100 片，可定制 |
| 清洁等级 |
ISO Class 5-9（根据应用选择） |
| 离子释放 |
≤1.0 ppm（典型值） |
| 金属含量 |
极低，符合行业高洁净标准 |
| 重量 |
约 120–150 g/m² |
| 硅含量 |
0，完全无硅处理 |
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