描述
MiraWIPE® S 无尘超细纤维擦拭布专为 ISO Class 3-5 洁净室 环境而设计,能够有效满足半导体、微电子和光学行业对中高等级洁净度的需求。该产品采用高品质超细纤维结构,具备优异的吸附性能和低颗粒释放特性,能高效清除微尘、油污及静电颗粒,不会对敏感器件表面造成划痕。
作为 10-28nm 技术节点晶圆厂设备预防性维护(PM) 的主力擦拭布,MiraWIPE® S 提供稳定可靠的擦拭解决方案。它不仅适用于半导体工艺设备,还广泛应用于精密光学、LCD 面板、医疗器械和航空航天领域,帮助用户保持关键工艺环境的高洁净度。
产品特点
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适用于 ISO Class 3-5 洁净室
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采用超细纤维结构,高效捕捉微小颗粒和污染物
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极低颗粒与离子析出,确保设备表面无残留污染
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布面柔软,不会刮伤晶圆、光学镜头或精密元件
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吸液性强,可用于清除液体残留
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耐化学腐蚀,兼容多种溶剂
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适用于 10-28nm 节点晶圆厂设备 PM,验证性能稳定
应用范围
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半导体晶圆厂设备 PM(10-28nm 技术节点)
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精密光学元件、镜头清洁
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微电子制造车间污染控制
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LCD 显示面板生产及维护
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航空航天高精度组件清洁
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高端医疗器械制造与维护
产品参数
| 参数项 | 说明 |
|---|---|
| 品牌 | MiraWIPE® |
| 型号 | S |
| 材质 | 超细纤维(Microfiber) |
| 适用洁净等级 | ISO Class 3-5 |
| 尺寸 | 可定制(常规 9”x9”等) |
| 特点 | 高吸附性、低颗粒/离子析出、不刮伤表面、耐化学腐蚀 |
| 主要应用 | 晶圆厂设备 PM、精密电子/光学清洁 |
| 技术适配范围 | 半导体 10-28nm 技术节点生产设备 |






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