MiraWIPE® S 无尘超细纤维擦拭布

MiraWIPE® S 无尘超细纤维擦拭布,专为 ISO Class 3-5 洁净室研发,是 10-28nm 节点晶圆厂设备维护的理想选择,具备高吸附力、低颗粒释放与表面安全擦拭性能。

描述

MiraWIPE® S 无尘超细纤维擦拭布专为 ISO Class 3-5 洁净室 环境而设计,能够有效满足半导体、微电子和光学行业对中高等级洁净度的需求。该产品采用高品质超细纤维结构,具备优异的吸附性能和低颗粒释放特性,能高效清除微尘、油污及静电颗粒,不会对敏感器件表面造成划痕。

作为 10-28nm 技术节点晶圆厂设备预防性维护(PM) 的主力擦拭布,MiraWIPE® S 提供稳定可靠的擦拭解决方案。它不仅适用于半导体工艺设备,还广泛应用于精密光学、LCD 面板、医疗器械和航空航天领域,帮助用户保持关键工艺环境的高洁净度。

产品特点

  • 适用于 ISO Class 3-5 洁净室

  • 采用超细纤维结构,高效捕捉微小颗粒和污染物

  • 极低颗粒与离子析出,确保设备表面无残留污染

  • 布面柔软,不会刮伤晶圆、光学镜头或精密元件

  • 吸液性强,可用于清除液体残留

  • 耐化学腐蚀,兼容多种溶剂

  • 适用于 10-28nm 节点晶圆厂设备 PM,验证性能稳定

应用范围

  • 半导体晶圆厂设备 PM(10-28nm 技术节点)

  • 精密光学元件、镜头清洁

  • 微电子制造车间污染控制

  • LCD 显示面板生产及维护

  • 航空航天高精度组件清洁

  • 高端医疗器械制造与维护

产品参数

参数项 说明
品牌 MiraWIPE®
型号 S
材质 超细纤维(Microfiber)
适用洁净等级 ISO Class 3-5
尺寸 可定制(常规 9”x9”等)
特点 高吸附性、低颗粒/离子析出、不刮伤表面、耐化学腐蚀
主要应用 晶圆厂设备 PM、精密电子/光学清洁
技术适配范围 半导体 10-28nm 技术节点生产设备

评价

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